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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

顶目经验 该半导体器件制造技术化工业区处在华北沿海地区,总内容投资突破200亿美金,主耍生产的12寸大晶圆和先进的封裝新产品。化工业区日污染破坏物废供水量约5000吨,涉及到各种流程生产废水加工处理方法,解决难度系数大。内容标准要求生产废水加工处理方法解决后满足《光电子化工业水污染破坏物污染破坏物标准》(GB 39731-2020)越来越污染破坏物允许值,组成部分回收率不最低60%。 生活污水组成及原因 含氟废水处理:核心出自于晶圆蚀刻、刷洗工艺流程,氟化合物质量浓度更是高达200-500mg/L,pH值上下波动大 有机肥料化学生产废水:光刻、成像、去胶等工艺程序诞生,COD氧浓度300-800mg/L,包含异丙醇、二甲苯等有机肥料化学容剂 含铜焦化废水:电镀层、化学上机械性打蜡 (CMP)程序会产生,铜铁离子溶液浓度50-150mg/L 酸碱性印刷废气:机 洗、印刷废气清洗等部门诞生,pH值在2-12直接变化 打磨污水:CMP工艺流程带来,含有微米级二氧化反应硅粉末 治理 的工艺具体流程 分为"各类采集而来+分质除理+纵深过滤"的结合工艺技术: 含氟焦化废水加工处理线 : 两极耐腐蚀石雕文化水解:先添加氯化钙调节器pH至6-7,再加上入PAC和PAM水解酸化池石雕文化水解 催化活性阳极氧化铝粉物理吸附:为了保证氟化合物质量浓度降低5mg/L下述 废水经板框压滤后委托协议正规专业预防 有机物污水整理线 : 微电解抛光法预办理:铁碳微电解抛光法分解大原子核有机的物 UASB好氧菌生理物反应器:HRT=24h,COD避开率>60% MBR膜生物制品反应迟钝器:通过PVDF中空玻璃窗玻璃纤维膜,通量15LMH 含铜废渣正确处理线 : 化学上沉积:添加NaOH的调节pH至9-10,成型Cu(OH)2沉积 化合物互相交換:有级树脂材料互相交換有效确保铜化合物<0.3mg/L 钛电极收旧:一些废气经钛电极收旧黑色金属铜 综上除理系統 : 调控池:均衡教育生活饮用水水流量,设芬顿反应打料 混泥土石雕文化沉淀:添加包覆斜管沉淀池剂祛除胶体溶液有害物质 三氧离子液体钝化:光可降解难光可降解有机质物 反浸入系統:脱盐率>98%,产水回收于分娩线 厌氧颗粒污泥加工处理系统的 : 工业废水浓缩液池:胶体浓硫酸浓度从1%提高了至3% 离心分离甩干:放入PAM慢慢调理,泥饼含水分率<75% 超高温干化:位置工业废水干化至含水量率30%这 最后特效 新项目修建加载后,那项指标值相对稳定符合基准:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜亚铁离子<0.3mg/L、pH 6-9。使用自来水水环境提升GB/T 19923-2005产业用自来水基准,使用率65%,第年省下优质水剂量约115万吨。淤泥会产生量减轻40%,危险区危化物救治人工成本减低35%。平台自功化系数高,手机在线监测技术的数据与环保型部位实时更新连接网络。

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