半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
活动底色
该制造业企业专业技术研发半导体芯片用高纯氟化氢和六氟化钨,废液氟溶度非常高且营养成分很复杂。现有操作艺使用效果不平衡,氟化物排放物时不时符合标准。创业项目者2一千万元建设规划特定操作公用设施,设计操作性能500吨/天。
废液组成及来自
生活污水注意来于制作装置进行维护清洁和烟粉尘洗衣:
氟正离子盐浓度:1500-3500mg/L
含浓盐酸根阴离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含进样器钨、钼等合金材料设计元素
正确处理施工工艺程序流程
对应减阻剂值特征 ,用"与+多用析出+膜处里"技术:
污化工废水 获取池:种类获取多种氧化还原电位污化工废水
中合反馈池:分时段污泥脱水氢防硫化钠和氢防硫化钙,操控不可能pH至7.5-8.
斜管沉积池化学反应池:添加PAC和PAM加强沉积视觉效果
斜管沉定池:极有效率固液分离法
多物料过虑器:清掉犬细小颗粒物
反加入模式:深层次脱盐和除氟
淤泥果汁脱水等等系统:离心分离脱水等等后淤泥土石方专业处里
线下污染监测控制系统:雷达回波图监测氟化合物溶液浓度和pH值
进而功效
处置机系统加载数剧:
进水的氟阳离子总值浓硫酸浓度:2800mg/L
有水出氟铝离子氧化还原电位:3.2mg/L(年均)
氟删去率:99.9%大于
水造纸废水处理率:完成65%
平台自动的化度高,构建生活污水正确处理成本费削减30%,年收废氟化钙副成品约400吨。