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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

品牌背景图 该半导体集成电路芯片产生公司隶属于华东位置位置,基本生产的一体化三极管集成电路芯片,日废气排放出含氟废液约800吨。主要是因为当地人生态环保规格不断提高,本身整理措施无发满足了氟化物废气排放出溶度最低5mg/L的新需要,公司加盟1400万元刚刚建立正规含氟废液整理软件系统。 焦化废水的成分及源头 工业废水具体种类于基带芯片生产加工流程中的刻蚀生产工艺和除污生产工艺,具体水固体废弃物有: 氟阴离子氧化还原电位:300-800mg/L pH值:2- 具有大量硅酸盐、聚磷酸盐 氢化物发生器天价属如铜、镍等 加工处理方法流程步骤 用到"预治理+催化析出+深度的治理"组合成艺: 改善池:均等化饮用水水流量,软件设置pH百度在线污染监测 一个表现池:加药氢氧化物钙,操控pH至7-8,养成氟化钙沉垫 两级沉积池:沉积拆分氟化钙厌氧颗粒污泥 2级发应池:污泥脱水氯化钙和聚合物氯化铝,逐步一个脚印避开残存氟阴离子 下级沉淀物中物中池:重新沉淀物中物中破乳 砂滤系统:的还原悬屏物 活性氧炭吸:快速清理充分物和微量分析巨资属 工业废水外理软件:板框压滤脱水处理,工业废水含水量率降低60%下类 之后治疗效果 平台操作相对稳定后,出液环境质量: 氟铁离子溶度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 天价属硫含量均压低查出限 完成提供《微电子工农业水被污染的物摆放规格》(GB39731-2020)条件,年提高氟化物摆放约180吨。

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